真空爐石墨配件的使用環(huán)境：
氧氣含量：在高溫真空環(huán)境下，石墨資料簡略遭到氧氣的侵犯。尤其是在爐門開關過程中，爐內氧氣含量或許會時間短升高，增加了石墨配件氧化的風險。假如真空爐的密封功用不佳，外部空氣或許進入爐內，進一步加重真空爐石墨配件的氧化。
污染物：真空爐內部或許存在的殘留水分、氣體或其他污染物也或許促進氧化反響的發(fā)生。
溫度與濕度：在高溫、高濕環(huán)境下，石墨制品的失重率會明顯增加，抗氧化功用也會相應下降。
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